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更新時(shí)間:2026-03-02
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| 參數(shù)項(xiàng)目 | 數(shù)值/規(guī)格 |
|---|---|
| 型號(hào) | CGM-051 |
| 質(zhì)量數(shù)范圍 | 1 ~ 51 amu |
| 最小可檢測(cè)分壓強(qiáng) | < 1×10?? Pa |
| 質(zhì)量標(biāo)度穩(wěn)定性 | ±0.1 amu/8小時(shí) |
| 離子源燈絲 | 鑄釷鎢 (Th-W) |
| 檢測(cè)器 | 法拉第杯 (可選配電子倍增器) |
超高靈敏度:能夠檢測(cè)到極低濃度的氣體成分,最小可檢測(cè)分壓強(qiáng)可達(dá) 1×10?? Pa 量級(jí),非常適合用于高真空和超高真空環(huán)境的泄漏檢測(cè)和雜質(zhì)分析。
快速掃描:可以快速掃描 1~51 amu 的質(zhì)量范圍,實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)真空室內(nèi)氣體成分的變化,幫助工程師判斷工藝狀態(tài)或泄漏源。
堅(jiān)固耐用:采用鑄釷鎢燈絲,相比普通燈絲具有更長(zhǎng)的使用壽命和更好的抗中毒能力,適合在復(fù)雜工業(yè)環(huán)境中長(zhǎng)期運(yùn)行。
操作簡(jiǎn)便:通常配備專用的控制單元(如 CGM-CP01),通過電腦軟件進(jìn)行操作,界面友好,易于進(jìn)行譜圖分析。
真空系統(tǒng)檢漏:通過檢測(cè)示蹤氣體(如氦氣)的信號(hào),精確定位真空系統(tǒng)的泄漏點(diǎn)。
工藝過程監(jiān)控:在半導(dǎo)體制造、真空鍍膜(PVD/CVD)等工藝中,實(shí)時(shí)監(jiān)控反應(yīng)氣體的消耗和副產(chǎn)物的生成,確保產(chǎn)品質(zhì)量。
材料出氣分析:在真空熱處理或空間模擬環(huán)境中,分析材料在真空下釋放的氣體成分(如水蒸氣、碳?xì)浠衔铮u(píng)估材料的真空適應(yīng)性。
基礎(chǔ)科學(xué)研究:在物理、化學(xué)等實(shí)驗(yàn)室中,用于表面科學(xué)、催化反應(yīng)等領(lǐng)域的氣體成分分析。